ito制粉

纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备
2016年1月4日 氧化铟锡( indiumtinoxide )简称 ITO,ITO 靶材是一种功能陶瓷材料,主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶凝胶 铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展

铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术百度文库
传统的 ITO 靶材成形存在一定的问题, 这里针对成形工序提出适 合管状靶材的动 态成形方案 特别适合于管状靶材的成形众所周知爆炸冲击震动波属于疏密波若用于棒状的成形只能 2022年6月17日 氧化铟锡 (Indium Tin Oxide,ITO)是一种应用最广泛的 n 型透明导电氧化物,具有优异的光电性能 [ 1] 。 经磁控溅射 [ 2] 、脉冲激光沉积 [ 3] 、化学气相沉积 (CVD) [ 4] 、电子束蒸发 [ 5] 、喷雾热解 [ 6] 大尺寸氧化铟锡(ITO)靶材制备研究进展

纳米ITO粉体的制浆工艺 百度学术
用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采用XRD,TEM和SEM等对粉体,浆料进行表征与分析,研究工艺参数对浆料稳定性的影响结果表明,ITO粉体晶体呈立方铁锰 2012年1月14日 铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究pdf 本论文以热等静压制备铟锡氧化物ITO靶材的工艺流程为主线借助热分射线衍射XRD透射电镜TEM扫 铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究 豆丁网

纳米氧化铟锡ITO粉末 广州宏武材料科技有限公司
纳米级铟锡化合物(ITO)是制造高密度的ITO靶材不可替代的原料,还可用于彩色电视机或个人电脑的CRT显示器、各种透明导电胶、防辐射及静电屏蔽涂料等。2024年4月24日 公司依托于日本国立物质材料研究所(NIMS)技术创新力量支持,实现ITO粉体的进口替代,解决我国高端ITO靶材“卡脖子”技术难题,打破国外企业在ITO靶材技术上的垄断地位。湖南艾缇欧新材料有限公司

一种由ITO废靶直接粉碎制粉并生产ITO靶材的制备方法与流程
2020年12月15日 本发明提出的一种由ito废靶直接粉碎制粉并生产ito靶材的制备方法,包括如下步骤: s1、将废靶材进行打磨、清洗和酸泡得到预处理废靶材料; s2、将步骤s1得 2021年6月17日 压制成形是将松散的ITO粉末原料放入设计好的模具中,并施加一定的压力后便获得块状坯体的一种成形方法,在加压过程中 ITO 粉末发生颗粒位移、重新排列、 高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势中国期刊网

纳米铟锡氧化物ITO粉制备方法行业资讯铋粒碲粉铟箔低
2021年8月5日 铟锡氧化物ITO在许多方面得到应用 ,如电学材料、透明电 极材料 、太阳能电池材料、电致发光材料等, 特别是氧化铟锡纳米晶体粉末在屏幕显示技术方面有着广泛的应用 。由ITO粉末制成的ITO靶材及其ITO导电膜在低压钠灯、建筑玻璃、炉门及冷冻食品显示 器等中起着红外发射作用, 在飞机 、火车 纳米氧化铟锡ITO具有优良的电学和光学性质,包括导电性、透明性、隔热性、防紫外线等性能,根据不同的用途可以调整In2O3和SnO2的配比,从而得到不同特性的ITO纳米粉体。 其主要应用于红外吸收膜、隔热涂层、导电层、靶材、抗静电涂层和涂料等领域。 纳米 纳米氧化铟锡ITO粉末 广州宏武材料科技有限公司

大尺寸氧化铟锡(ITO)靶材制备研究进展
2022年6月17日 由于生坯以及烧结炉中的氧气,ITO失氧分解及挥发得到有效抑制,从而以较短时间烧结制备得到大尺寸、高致密细晶粒的ITO靶材,制备的ITO靶材尺寸大于700 mm×500 mm,相对密度在995%以上,晶粒 纳米ITO粉体的制浆工艺 用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采用XRD,TEM和SEM等对粉体,浆料进行表征与分析,研究工艺参数对浆料稳定性的影响结果表明,ITO粉体晶体呈立方铁锰矿型结构,平均晶粒尺寸 分布在20nm左右,由此粉体制取无水乙醇浆 纳米ITO粉体的制浆工艺 百度学术

昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境
查看全文>> 受业主委托,中国采招网于2022年07月18日发布昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书次公示;项目简介: 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书次公示 根据《中华人民共和国环境 2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1本实用新型属于制粉技术领域,具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术: 2o(氧化铟锡)靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高,在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中,因 一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 X技术网

一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 X技术网
2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1本实用新型属于制粉技术领域,具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术: 2o(氧化铟锡)靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高,在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中,因 2016年1月4日 技术简介 氧化铟锡( indiumtinoxide )简称 ITO,ITO 靶材是一种功能陶瓷材料,主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。 粉体造粒成型后分别采用加压和常压烧结法制备出相对理论密度大于 995%、氧化铟单一相的 ITO 靶材。纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备

工程建设验收公示网
发布时间: 昆明裕隆电子材料有限公司应急预案备案前网络公示 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目位于云南安宁产业园区(安宁片区)千亿级绿色新能源电池(新材料)产业园,总投资5000万元,其中环保投资1252万元,租用昆明汇 2020年12月15日 本发明属于磁控溅射技术领域,尤其涉及一种由ito废靶直接粉碎制粉并生产ito靶材的制备方法。背景技术铟锡氧化物靶材,indiumtinoxide靶材,简称ito靶材,是氧化铟和氧化锡两种金属氧化物的混合物经高温烧结形成的陶瓷功能材料。由氧化锡掺杂氧化铟烧结的ito靶材,经真空磁控溅射镀膜后,可在 一种由ITO废靶直接粉碎制粉并生产ITO靶材的制备方法与流程

ITO靶材氧化铟锡靶材啟睿新材料
2023年4月13日 ITO 靶材 ITO靶材以磁控溅射等方式用于导电玻璃的制备 ITO镀膜具有导电性、对可见光的透明性以及对红外线的反射性三个特性,其广泛用于显示屏、玻璃幕墙、触摸屏、太阳能电池、雷达屏蔽、冰柜、 2023年11月3日 ITO靶材:工艺揭秘,性能提升与延寿技巧 一、基础知识介绍 ITO(Indium Tin Oxide,锡掺杂氧化铟)是一种应用广泛的透明导电材料。 其具有优异的光学透过率和电导率,因此在液晶显示器 (LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管 (OLED)等领域有着重要的应用 ITO靶材:工艺揭秘,性能提升与延寿技巧

知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎
2020年4月29日 本发明涉及旋转ito靶材制备领域,尤其涉及一种单节长度一米以上的旋转ito靶材制备工艺。背景技术面版行业,旋转ito靶材,因工艺限制,一直只能生产300500mm长度的靶材,使用时是采用拼接的方式,例如85代线靶材规格是2940mm长度,如果单节长度较短只有300500的话,则拼接节数很多,有些厂家 单节长度一米以上的旋转ITO靶材制备工艺的制作方法 X技术网

ITO制作工艺讲解百度文库
ITO制作工艺讲解 f1、蚀刻膏工艺 化学蚀刻法有以下几种方式实现:一种是直接在产品电极图形区 域外印制蚀刻膏,等反应完全后,用蚀刻膏溶剂,一般是水清洗 干净,留下所需的电极图形。 这种方式对于一些线宽和线距要求 在 02mm 以上的光电产品如低档 TN 2020年4月29日 本发明涉及旋转ito靶材制备领域,尤其涉及一种单节长度一米以上的旋转ito靶材制备工艺。背景技术面版行业,旋转ito靶材,因工艺限制,一直只能生产300500mm长度的靶材,使用时是采用拼接的方式,例如85代线靶材规格是2940mm长度,如果单节长度较短只有300500的话,则拼接节数很多,有些厂家 单节长度一米以上的旋转ITO靶材制备工艺的制作方法 X技术网

ITO制粉【黎明重工科技】
2018年4月27日 ITO制粉据初步测算,锡山区每年将新增00万立方米建筑垃圾,而处置场现有的容量仅够使用3 年。为了延长处置场的使用寿命,城管部门计划在建筑渣土的量达到一定程度的时候,会将这些渣土根据成分加以综合利用,泥土可以制作成砖,混凝土 2023年5月18日 序号 文件名称 建设地点 建设单位 环评单位 受理时间 1 《 ***** 有限公司建设ito靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书》 云南安宁产业园区(安宁片区)千亿级绿色新能源电池(新材料)产业园 ***** 有限公司 云南 ***** 有限公司 2023年5月18日昆明市生态环境局关于 2023年5月18日建设项目环境影响

ITO靶材生产制造领域制粉关键技术的研究科创中国
2022年11月2日 3、ITO靶材的制 备 工艺达 到国内领先水平,具体技术参数指标如下 : 靶 材 最大单片尺寸 ≥1100mm; 纯度 ≥9999%;相 对密度 ≥ 997 %;电阻率 ≤ 014 m Ω cm;靶材均匀性 ≤ 01 % 。2019年9月13日 26 202003 公告 伊升机电贸易(上海)有限公司深圳分公司迁址联络 11 201909 公告 伊升机电2019年中秋节及社员旅行放假安排 根据《国务院办公厅关于2019年部分节假日安排的通知》,伊升机电2019年中秋节放假安排如下:2019年9月13日星 伊升机电贸易(上海)有限公司

高纯溅射靶材回收研究现状 参考网
2024年3月18日 映日科技、阿石创、广东先导等靶材公司对ITO 残靶回收进行了技术储备,在铟回收的过程中,存在工艺流程长、环境污染、回收率低等问题,ITO 残靶→ITO 制粉→烧结ITO 靶材工艺路线是一种高效、环保、短流程的可选途径,此工艺路线对污染源的控制要求非常高【新领域探索】——ITO靶材 知乎 知乎专栏

昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目
2022年11月10日 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目,关于昆明裕隆电子材料有限公司在云南省 昆明市由唐联云委托云南保兴环境科技咨询有限公司的姓名:彭小琴,职业资格证书管理号:,信用编号:BH 编制的 11 ITO制粉, 研发 搬运、清洗、使用盐酸时不带好手套等劳保用品 严重 按要求佩戴好劳保用品 较少 严重 强酸腐蚀伤人 较少 五、各岗位习惯性违章 12 研发 高低温煅烧粉体出炉时未等温度降低室温开始作业 保操作规程规定,并穿戴好劳保用品 13 ITO制粉 ito制粉

论文:铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究★
2011年5月15日 华中科技大学博士学位论文铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究姓名:****请学位级别:博士专业:材料学指导教师:**皓;李晨辉本论文以热等静压制备铟锡氧化物ITO靶材的工艺流程为主线借助热分射线衍射XRD透射电镜TEM扫描电镜SEM量分散谱EDS等分析手段系统地2023年12月20日 ITO靶材是由铟(In)和锡(Sn)两种元素在氧化环境下形成的化合物。 化学公式为In2O3:SnO2,通常情况,铟和锡的比例在重量上大约为 90:10。 这种特定的化学组合确保了材料的高透明度,卓越的电导性。 铟的主要作用是提供高电导性,锡的加入用 揭秘ITO靶材:从定义到特性,一文读懂氧化铟锡

昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO
受业主委托,中国采招网于2023年06月30日发布昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的公示;项目简介: 根据建设项目环境影响评价审批的有关规定,现将拟审批的《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

“昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目” 配套
2023年9月24日 2023年7月18日《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》取得昆明市生态环境局的批复(昆生环复﹝2023﹞41号)。现项目主体工程和配套环境保护设施已建成,根据《建设项目竣工环境保护验收管理办法》(国环规环评[2017]4号)的相关要求,现将该项目配套环境保护 一种ITO靶材废料制粉系统pdf 上传 暂无简介 文档格式:pdf 文档大小: 37332K 文档页数: 8 页 顶 /踩数: 0 / 0 收藏人数: 0 评论次数: 0 文档热度: 文档分类: 行业资料 一种ITO靶材废料制粉系统 豆丁网

ITO制作工艺百度文库
ITO制作工艺 ITO的原子与晶粒排布(电子扫描) 在绝大多数的场合中,化学蚀刻法是ITO图形制备最成熟和可行的技术,它可以根据你的需要,生成目前足够精细的图案和相对比较少的前期投资。 随着深紫外线技术在曝光设备上的应用,微米的精度,早已被大 019年月第48卷第1期总第74期云南冶金YUNNANMETALLURGYFeb.019V01.48.No.1Sum74影响大尺寸ITO靶材冷压质量的因素杨小林1,扈百直1,刘秉宁1,一,李正飞1,马肖11.西北稀有金属材料研究院宁夏有限公司,宁夏石嘴山;.稀有金属特种材料国家重点实验室,宁夏石嘴山摘 影响大尺寸ITO靶材冷压质量的因素 道客巴巴

中国研制出ITO靶材,科技领先世界,打破日本垄断局面太阳
2022年4月18日 不过就在近期,中国成功研制出了ITO靶材,相关领域的科技领先世界,打破了日本垄断局面,并超越国际水平,这次日本坐不住了。 图为ITO靶材 氧化铟锡是氧化铟和氧化锡的混合物。 薄薄的氧化铟锡在可见光范围内呈现透明状。 不过在红外光线下,氧化 高致密ITO靶材制备与工艺优化 氧化铟锡 (Indium Tin Oxides,简称ITO)靶材是一种在氧化铟中参杂氧化锡的金属氧化物复合材料,用它制备的ITO薄膜有电阻率低,可见光透过率高,紫外线吸收率大,耐磨耐蚀性能好等优点,被广泛应用于光电学领域但由于我国ITO靶材制备技术 高致密ITO靶材制备与工艺优化 百度学术

ITO靶材制备及烧结机理研究 百度学术
氧化铟锡 (ITO)薄膜被广泛应用在平板显示器及其他的元器件上ITO薄膜主要是通过使用ITO靶材利用磁控溅射法制备得到基于此,具备优异性能ITO靶材的制备是具有重要意义的本文对ITO的结构,ITO薄膜,ITO靶材及ITO粉体的制备方法进行了综述;研究了溶剂热法制 2023年5月26日 云南昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目 项目简称 云南昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目 项目简介 项目所在地:云南 项目性质:新建 建设进展:环评 工程投资:5000万元云南昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目

ito制粉
2022年11月2日 ITO靶材生产制造领域制粉关键技术的研究科创中国 2022年11月2日 ITO靶材生产制造领域制粉关键技术的研究 发布时间: 来源: 科技服务团 截止日期: 价格 双方协商 地区: 广西壮族自治区 柳州市 城中区 2023年6月30日 建设招标网>云南招标采购网:昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的公示:根据建设项目环境影响评价审批的有关规定,现将拟审批的《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》基本情况予以公示。昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO

靶材制备研究现状及研发趋势
2016年11月1日 采用该方法制备的铟锡氧化物靶材具有密度高、纯度高、尺寸大,生产效率高、成本低等优点。北京市东燕郊隧道局二处防疫站蒋政等人于2001年提出如下ITO制粉和靶材制备工艺。氧化铟锡粉末的制造工艺; 1)将金属铟和金属锡用硫酸、硝酸、盐酸中的任一种2021年8月5日 铟锡氧化物ITO在许多方面得到应用 ,如电学材料、透明电 极材料 、太阳能电池材料、电致发光材料等, 特别是氧化铟锡纳米晶体粉末在屏幕显示技术方面有着广泛的应用 。由ITO粉末制成的ITO靶材及其ITO导电膜在低压钠灯、建筑玻璃、炉门及冷冻食品显示 器等中起着红外发射作用, 在飞机 、火车 纳米铟锡氧化物ITO粉制备方法行业资讯铋粒碲粉铟箔低

纳米氧化铟锡ITO粉末 广州宏武材料科技有限公司
纳米氧化铟锡ITO具有优良的电学和光学性质,包括导电性、透明性、隔热性、防紫外线等性能,根据不同的用途可以调整In2O3和SnO2的配比,从而得到不同特性的ITO纳米粉体。 其主要应用于红外吸收膜、隔热涂层、导电层、靶材、抗静电涂层和涂料等领域。 纳米 2022年6月17日 由于生坯以及烧结炉中的氧气,ITO失氧分解及挥发得到有效抑制,从而以较短时间烧结制备得到大尺寸、高致密细晶粒的ITO靶材,制备的ITO靶材尺寸大于700 mm×500 mm,相对密度在995%以上,晶粒 大尺寸氧化铟锡(ITO)靶材制备研究进展

纳米ITO粉体的制浆工艺 百度学术
摘要: 用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采用XRD,TEM和SEM等对粉体,浆料进行表征与分析,研究工艺参数对浆料稳定性的影响结果表明,ITO粉体晶体呈立方铁锰矿型结构,平均晶粒尺寸 分布在20nm左右,由此粉体制取无水乙醇浆料的最佳工艺条件是pH=3左右,剪切时间为30h,剪切速度为6000r 查看全文>> 受业主委托,中国采招网于2022年07月18日发布昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书次公示;项目简介: 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书次公示 根据《中华人民共和国环境 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境

一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 X技术网
2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1本实用新型属于制粉技术领域,具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术: 2o(氧化铟锡)靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高,在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中,因 2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1本实用新型属于制粉技术领域,具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术: 2o(氧化铟锡)靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高,在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中,因 一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 X技术网

纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备
2016年1月4日 技术简介 氧化铟锡( indiumtinoxide )简称 ITO,ITO 靶材是一种功能陶瓷材料,主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。 粉体造粒成型后分别采用加压和常压烧结法制备出相对理论密度大于 995%、氧化铟单一相的 ITO 靶材。发布时间: 昆明裕隆电子材料有限公司应急预案备案前网络公示 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目位于云南安宁产业园区(安宁片区)千亿级绿色新能源电池(新材料)产业园,总投资5000万元,其中环保投资1252万元,租用昆明汇 工程建设验收公示网

一种由ITO废靶直接粉碎制粉并生产ITO靶材的制备方法与流程
2020年12月15日 本发明属于磁控溅射技术领域,尤其涉及一种由ito废靶直接粉碎制粉并生产ito靶材的制备方法。背景技术铟锡氧化物靶材,indiumtinoxide靶材,简称ito靶材,是氧化铟和氧化锡两种金属氧化物的混合物经高温烧结形成的陶瓷功能材料。由氧化锡掺杂氧化铟烧结的ito靶材,经真空磁控溅射镀膜后,可在